随着光伏行业生产自动化的改革，智能化的检测技术对于企业逐渐起着关键性的作用，产品的可用性与质量方面的要求也越来越高。面对行业应用中产品测量的多样化需求，由「美能光伏」所研发的四探针电阻测试仪，凭借其超宽的测量范围、超高的测量精度，以及多种测量方案等优点，致力于在测试和检验方面保证产品质量，是智能化时代的理想选择。本期由「美能光伏」给您介绍四探针电阻测试仪在市场应用过程中的多种测量方案。

技术性测量的多样化

美能四探针电阻测试仪拥有超高的测量范围和测量精度，适用范围十分广泛，可应用于半导体及光伏、功能材料、半导体工艺、非晶合金、液晶面板等领域。

薄层电阻测量

在半导体及光伏行业中，金属薄膜的方块电阻值是其电学性能的一个非常重要的参数，它可以反应薄膜导电性的好坏，还可以反映薄膜的膜厚。

美能四探针电阻测试仪通过多点测量的方式，能测量金属膜电阻（16）的均匀情况，帮助厂家衡量薄膜产品的器件性能以及质量。FPP230A电阻率分布图凸显了薄膜均一性，沉积质量和其他工艺变化，FPP230A可分布散点图和等高线图。

 AICuV三元合金方阻分布散点图          AICuV三元合金方阻分布等高线图

离子注入工艺测量

离子注入是一种向衬底中引入可控制数量的杂质，以改变其电学性能的方法。它是一个物理过程，不发生化学反应。离子注入在现代硅片制造过程中有广泛应用，其中最主要的用途是掺杂半导体，离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度。

四探针法是衡量离子注入工艺的标准测量技术。在热退火后通过测试离子注入分布可以识别由于灯故障、晶圆/平台接触不良或注入剂量变化而引起的热点和冷点。对于硅离子注入层，热退火工艺对于活化掺杂离子是必要的。温度均匀性对于退火工艺至关重要，其中晶圆边缘和支撑接触区域的热损失对于均匀性调控是一个巨大的挑战。

如图所示，三个红色(高电阻)区域表示了在离子注入退火工艺过程中热损失最大的位置，对应三个晶圆支撑位置。

非晶合金（22）电阻率测量

非晶合金（又称金属玻璃）是一类新型的多组元合金。它们有独特的无序原子结构、优异的力学和物理化学特性，获得了材料科学和凝聚态物理等多个领域的关注。然而，非晶合金的成分复杂性也使高性能新材料的设计和开发变得困难，非晶合金在升温过程中会发生结构弛豫和晶化。此时，伴随着一系列物理性能的变化，其中电阻率的变化尤为明显。

美能四探针电阻测试仪的ALCuV三元体系样品电阻率和结晶态分布图显示，电阻率分布和结晶态分布二者之间呈现明显的一致性，使用四探针技术可以代替昂贵且耗时的XRD扫描，实现金属玻璃的快速筛选。

    ALCuV三元合金方阻分布                 ALCuV三元合金结晶态分布

美能四探针电阻测试仪基于测量样品多样化的表现，以至于面对问题时能提供多种测试方案，深受客户推崇。「美能光伏」希望用专业、先进、创新的测试方案，助力客户高效发展，拓展领域科技蓝图。